中國浸沒式DUV光刻機傳啟動量產 阿斯麥股價兩日大跌11%

據日經新聞報道，荷蘭半導體生産設備巨頭阿斯麥控股（ASML Holdings）的股價大跌。有美國媒體報導稱，中國企業已開始製造被認為難度較大的浸沒式深紫外（DUV）光刻機，市場對阿斯麥與中國企業競爭加劇的擔憂升溫。

按7月28日歐洲股市的收盤價來看，阿斯麥自上週末以來兩天內下跌11%，創6月初以來新低。阿斯麥在半導體設備市場擁有近乎壟斷的地位，因市場擔心其與中國企業的競爭，股票遭到拋售。

擔憂也擴散到了全球半導體生産設備廠商，美國泛林集團（Lam Research）的股價截至28日連續2天下跌，尼康股價在28日比前一天下跌11%。向阿斯麥提供相關設備的日本Lasertec也下跌14%。 

美國媒體「The Information」於7月27日報導稱，中國企業已開始自主生産用於在半導體上繪製電路的浸沒式DUV光刻機。由多家企業組成的開發團隊負責研發，計劃2026年內生産5臺，到2027年生産20台。

預計最快將在年內向半導體代工廠商中芯國際積體電路製造（SMIC）、華虹半導體、長鑫存儲技術（CXMT）等交付。

如果中國實現光刻機國産化，用於人工智慧（AI）等的尖端半導體的量産將變得更加容易。 

DUV光刻機是1980年代開始使用的設備，隨著技術創新，開發出了使用更短波長的設備。此次，中國企業開發的設備使用了一種被稱為浸沒式的技術，通過讓光線通過水中，即使在相同波長下也能描繪出更細微的電路。該技術由阿斯麥在2000年代開發，尼康也有涉足。

DUV被定位為主力半導體生産設備。不僅被用於生産現有的面向智慧手機的半導體産品，還被用於生産AI半導體。DUV光刻機與世界上由阿斯麥獨家供應的極紫外（EUV）光刻機相比，製造難度較低。

半導體製造設備技術複雜，中國國內産品實際用於半導體量産工序被認為仍面臨課題。報導稱，該産品可能需要數月或更長時間才能進入量産線。目前的性能和生産品質不如阿斯麥産品。 

美國政府對面向中國的半導體設備實施出口管制。尖端的EUV光刻機等屬於管制對象，但部分老式浸沒式DUV光刻機允許出口。中國開發的設備的具體性能尚不清楚，是否與管制對象産品具有同等技術尚不清楚。

中芯國際一直使用老式光刻機生産半導體。浸沒式DUV光刻技術通過重覆曝光一部分層，也可用於生産更高級的半導體。

由於出口管制的影響，在阿斯麥的營業收入中，中國的佔比正在下降。中國市場收入佔阿斯麥2026年4～6月營收的比重由上年的27%降至14%。阿斯麥表示，2026年全年預計將佔2成。美國正在考慮進一步加強管制，阿斯麥未來在中國市場的份額可能進一步下降。

鑒於出口管制，中國正在加緊構建國內閉環的半導體供應鏈。除了不依賴EUV設備的自主半導體生産方法之外，還在推進開發EUV設備。阿斯麥的CEO警告稱，中國可能因受到的管制加強而加速研發。