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面對美國技術限制，中國科學家於深圳實驗室打造出被稱為「中國曼哈頓計劃」的EUV光刻機原型，由前ASML工程師團隊透過逆向工程研發，現處測試階段。該技術突破西方壟斷，目標2028年前實現AI晶片生產，大幅提前外界預估的技術突破時程。

荷蘭光刻機製造商阿斯麥爾ALMS首席執行官CEO克里斯托夫·富凱接受《紐約時報》專訪時警告，美國芯片出口限制，不僅會削弱ASML在半導體行業的主導地位，還將適得其反，進一步促進中國自立自強。